導讀：光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備，也是光刻膠材料研發的重要設備，根據晶瑞電材的集成電路制造用高端光刻膠研發項目信息，設備及安裝費占總投資額的69%，而光刻機就占設備及安裝費的44%。
 

2、2020年全球光刻機銷量同比增長16.7%，以中低端產品為主
 

　　目前，全球光刻機市場的集中度極高，前三大廠商的市場份額占比達90%以上。數據顯示，2015-2020年，全球光刻機銷售量總體增長，2020年達413臺，同比增長16.7%。
 

　　光刻機隨著光刻技術的更迭，已從最初的g-line，i-line歷經KrF、ArF發展到了如今的EUV。2020年，全球光刻機銷量仍以中低端產品(KrF、i-Line)為主，合計達264臺，占比約65%;而在高端光刻機-EUV的銷量為31臺，占比約19%。
 

3、荷蘭ASML公司占全球光刻機龍頭地位
 

　　從TOP3企業的競爭格局來看，2020年，荷蘭ASML公司占比62%，出貨量達到258臺，力壓尼康和佳能：
 

　　同時，從銷售額來看，由于當前僅有荷蘭ASML公司銷售高端光刻機-EUV(售價最高)，因此，ASML仍占據市場龍頭地位，市場份額達91%。